Anirudh, R., Archibald, R., Asif, M. S., Becker, M. M., Benkadda, S., Bremer, P. T., Bude, R. H. S., Chang, C. S., Chen, L., Churchill, R. M., Citrin, J., Gaffney, J. A., Gainaru, A., Gekelman, W., Gibbs, T., Hamaguchi, S., Hill, C., Humbird, K., Jalas, S. & Kawaguchi, S.
& 43 others,
Kim, G. H., Kirchen, M., Klasky, S., Kline, J. L., Krushelnick, K., Kustowski, B., Lapenta, G., Li, W., Ma, T., Mason, N. J., Mesbah, A., Michoski, C., Munson, T., Murakami, I., Najm, H. N., Olofsson, K. E. J., Park, S., Peterson, J. L., Probst, M., Pugmire, D., Sammuli, B., Sawlani, K., Scheinker, A., Schissel, D. P., Shalloo, R. J., Shinagawa, J., Seong, J., Spears, B. K., Tennyson, J., Thiagarajan, J., Ticos, C. M., Trieschmann, J., Dijk, J. V., Essen, B. V., Ventzek, P., Wang, H., Wang, J. T. L., Wang, Z., Wende, K., Xu, X., Yamada, H., Yokoyama, T. & Zhang, X.,
Jul 1 2023,
In: IEEE Transactions on Plasma Science. 51,
7,
p. 1750-1838 89 p.Research output: Contribution to journal › Article › peer-review