Metrology of scattering with angular limitation projection electron lithography masks

J. A. Liddle, M. I. Blakey, T. Saunders, R. C. Farrow, L. A. Fetter, C. S. Knurek, R. Kasica, A. E. Novembre, M. L. Peabody, D. M. Tennant, D. L. Windt, M. Postek

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review