Novel lithography-independent pore phase change memory

M. Breitwisch, T. Nirschl, C. F. Chen, Y. Zhu, M. H. Lee, M. Lamorey, G. W. Burr, E. Joseph, A. Schrott, J. B. Philipp, R. Cheek, T. D. Happ, S. H. Chen, S. Zaidi, P. Flaitz, J. Bruley, R. Dasaka, B. Rajendran, S. Rossnagel, M. YangY. C. Chen, R. Bergmann, H. L. Lung, C. Lam

Research output: Contribution to journal › Conference article › peer-review