Pattern placement correction methodology for 200 mm SCALPEL masks

  • L. E. Ocola
  • , R. C. Farrow
  • , R. J. Kasica
  • , C. G. Caminos
  • , L. Rutberg
  • , R. F. Fullowan
  • , K. Teffeau
  • , M. I. Blakey
  • , M. L. Peabody
  • , C. S. Knurek
  • , G. R. Bogart
  • , A. E. Novembre
  • , J. A. Liddle
  • , M. Lercel
  • , C. Magg
  • , K. Collins
  • , M. Trybendis
  • , N. Cadwell
  • , R. Jeffer
  • , W. J. Dauksher
    • D. J. Resnick, D. Mancini, S. I. Han, Z. Masnyj, K. Smith, P. J.S. Mangat

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review

3 Scopus citations

Fingerprint

Dive into the research topics of 'Pattern placement correction methodology for 200 mm SCALPEL masks'. Together they form a unique fingerprint.

Keyphrases