Pattern placement correction methodology for 200 mm SCALPEL masks

L. E. Ocola, R. C. Farrow, R. J. Kasica, C. G. Caminos, L. Rutberg, R. F. Fullowan, K. Teffeau, M. I. Blakey, M. L. Peabody, C. S. Knurek, G. R. Bogart, A. E. Novembre, J. A. Liddle, M. Lercel, C. Magg, K. Collins, M. Trybendis, N. Cadwell, R. Jeffer, W. J. DauksherD. J. Resnick, D. Mancini, S. I. Han, Z. Masnyj, K. Smith, P. J.S. Mangat

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review